Gases eletrônicos mistos são amplamente usados em circuitos integrados de larga escala (LSI), circuitos integrados de ultra larga escala (VLSI) e produção de dispositivos semicondutores. Eles são usados principalmente em epitaxia de fase gasosa (produção), deposição química de vapor, dopagem (difusão de impurezas), vários processos de gravação e implantação de íons.
Nenhum resumo eletrônico de gás misto
1. Diclorosilano (DCS) 5000ppm+N2; Diclorosilano (DCS) 15ppm+N2
2 diclorosilano (DCS) 10ppm+triclorosilano (TCS) 10ppm+hélio
3 HCI 50ppm+diclorosilano (DCS) 1000ppm+He de equilíbrio
4 Silano 1%+Diclorosilano (DCS) 1%+Triclorosilano (TCS) 1%+Tetraclorosilano 1%+Nitrogênio
5 Silano 50ppm+Triclorosilano (TCS) 1000ppm+He
6 Triclorosilano (TCS) 15ppm+N2
7 Etilsilano (Si2H4) 100ppm~200ppm+H2
8 Etilsilano 10ppm+He
9 CO2 5ppm+silano 135ppm+etilsilano 1000ppm+He
10 SiH4 5ppm~15%+Ar (H2/N2/He)
11 H2 5ppm+Ar 5ppm+N2 5ppm+CO 5ppm+CH4 5ppm+He de equilíbrio de CO2 5ppm+silano 1000ppm
12 Etilborano 50-100ppm+H2
13 Arsenano 100ppm~0,7%+H2
14 germanano 1%~10%+H2
15 Tricloreto de boro 1%~5%+N2 (He)
16 PH3 0,8 ppm ~ 500 ppm + He (H2)
17 HCl 9 ppm ~ 50% + N2
18 NF3 99,99% 180g~1500g
19 NF3 20ppm~30ppm+Ar
20 NF3 15 ppm+N2
21 CF4 80%+O2
22 Ar 5ppm~80%+Ne (H2/He/N2)
23 Kr 8%~50%+Ar
24 Não 80%~97%+São
